자외선 펄스 레이저
UV 펄스 레이저는 연속된 광선 대신 짧고 제어된 UV 광선을 순간적으로 방출하는 고급 광학 장치이다. 이 기술은 일반적으로 200~400나노미터(nm) 범위의 파장을 사용하며, 나노초, 피코초 또는 펨토초 단위로 측정되는 극도로 짧은 펄스로 고에너지 광자를 방출한다. UV 펄스 레이저 시스템은 레이저 소스, 빔 전달 광학계, 그리고 펄스 지속 시간, 주파수, 에너지 출력을 정밀하게 조절하는 제어 전자장치로 구성된다. 주요 기능으로는 정밀한 재료 제거(아블레이션), 선택적 광화학 반응, 열 손상이 없는 민감한 기판 가공 등이 있다. UV 펄스 레이저의 기술적 특징으로는 뛰어난 빔 품질, 최소한의 열 영향 구역(heat-affected zone), 우수한 공간 해상도가 있으며, 이를 통해 마이크로 및 나노 규모의 가공이 가능하다. 자외선 복사의 짧은 파장은 적외선 또는 가시광 레이저보다 더 집중된 초점을 형성하고 더욱 세밀한 디테일을 구현할 수 있게 한다. 응용 분야는 전자제품 제조(인쇄회로기판(PCB) 드릴링 및 마이크로 머신잉), 의료기기 제조(스텐트 절단 및 카테터 표시), 반도체 제조(웨이퍼 다이싱 및 리소그래피), 적층 제조(고해상도 3D 프린팅) 등 다양한 산업 분야에 걸쳐 있다. 또한 과학 연구, 생체의학 진단, 재료 분석 분야에서도 활용된다. 이 레이저는 재료를 열 손상 없이 가공할 수 있어, 기존 공정으로 인해 원치 않는 용융이나 변형이 발생할 수 있는 폴리머, 유리, 세라믹, 얇은 필름 등의 가공에 이상적이다.